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SiC

1 2017年07月08日  星期六  

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SiC

2 2017年05月10日  星期三  

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SiC

3 2016年11月30日  星期三  

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SiC

4 2016年11月01日  星期二  

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SiC

5 2016年07月26日  星期二  

蚀刻时间/缺陷率呈正函数关系 SiC晶圆表面处理时间要抓紧

新电子

碳化矽(SiC)在大功率、高温、高频等极端条件应用领域具有很好的前景。但尽管商用4H-SiC单晶圆片的结晶完整性*近几年显着改进,这些晶圆的缺陷密度依然居高不下。经研究证实,晶圆衬底的表面处理时间越长,则表面缺陷率也会跟着增加。 碳化矽(SiC)兼有宽能带隙、高电击穿场强、高热导率、高载流子饱和速率等特性,在大功率、高温、高频等极端条件应用领域具有很好的前景。尽管商用4H–SiC单晶圆片的结晶完整性*近几年显着改进,但这些晶圆的缺陷密度依然居高不下。 经研究证实,晶圆衬底的表面处理时间越长,则表面缺陷率也会跟着增加。表面缺陷严重影响SiC元件品质与矽元件相比,碳化矽的能带隙更宽,本征载流子浓度更低,且在更高的温度条件下仍能保持半导体特性,因此,采用碳化矽材料制成的元件,能在比矽元件更高的工作温度运作。碳化矽的高电击穿场强和高热导率,结合高工作温度,让碳化矽元件取得极高的功率密度和能效。 如今,碳化矽晶圆品质和元件制造制程显着改进,各大半导体厂商纷纷展示了高压碳化矽解决方案,其性能远超过矽萧特基势垒二极体(SBD)和场效应电晶体(FET),其中包括阻断电压接近19kV的PiN整流管;击穿

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SiC

6 2016年06月16日  星期四  

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