半导体微影技术大厂艾司摩尔(ASML)公布2017**季财报。ASML在**季新增8台EUV系统订单，让EUV微影系统的未出货订单累积到27台，总值高达28亿欧元。预估2017第三季营收净额约为22亿欧元，毛利率约为43%。因为市场需求和**季的强劲财务表现，ASML预估2017全年营收成长可达25%。
ASML总裁暨执行长温彼得(Peter Wennink)指出：“ASML今年的主要营收贡献来自存储器芯片客户，尤其在DRAM市场需求的驱动下，这部分的营收预估将比去年成长50%，而来自逻辑芯片方面的营收也可望成长15%。在EUV微影系统部分，未出货订单累积金额在**季已经累积到28亿欧元，显示不论逻辑芯片和DRAM客户，都积极准备将EUV导入芯片量产阶段。”此外，ASML近年来积极推行系统升级业务，该部分的营收贡献可望在今年成长20%，也认为成长动能将延续到2018年。
**季产品重点摘要部份，在深紫外光(DUV)微影方面，推出*新浸润式微影系统TWINSCAN NXT:2000i，让客户得以在7纳米和5纳米制程节点上，同时用浸润式微影和EUV系统进行量产，并达到2.5纳米的叠对精度(on-product overlay)。另一方面，3D NAND客户对于KrF乾式微影系统的需求持续升高，目前TWINSCAN XT:860的未出货订单已累积超过20台。TWINSCAN XT:860系统的生产力可达到每天曝光5,300片晶圆。
就全方位微影优化方案(Holistic Lithography)部份，本季开始出货*新的YieldStar 375F量测系统，具备*新的光学技术，可更快、更精准的获取量测结果。至于极紫外光(EUV)微影，在荷兰总部已经成功将升级的EUV光源整合进NXE:3400B系统中，并达成每小时输出125片晶圆的生产力指标。在**季当中，ASML也完成了对德国卡尔蔡司(ZEISS)旗下蔡司半导体(Carl Zeiss SMT)24.9%的股权收购，以进一步深化双方的策略伙伴关系，共同发展下一代EUV微影系统。
展望2017年第三季，ASML预估整体销售净额可达22亿欧元，毛利率约落在43%，其中包含约3亿欧元的EUV营收认列。研发投资金额提高到3.15亿欧元，其他收入部份(包括来自于客户共同投资计划的收入)约为2,400万欧元，而管销费用(SG&A)支出则约1.05亿欧元，年化税率约14%。ASML预计在第三季会有另外3台NXE:3400B EUV微影系统完成出货。
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