台积电于 3 日举办第十五届供应链管理论坛，台积电总经理暨共同执行长刘德音表示，库存调整已近尾声，2016 有望恢复成长，台积明年将比今年更好，与先前自家董事长张忠谋的说法一致，刘德音对台积电先进製程进度也透露更多的讯息。
在 16 奈米製程，台积电先前推出比 FinFET Plus 更低功耗的 FFC 製程，主打低阶智慧手机与物联网等领域，刘德音昨 3 日指出，目前已设计定案（tape-out）的有 27 个，估计 2016 年达到 100 个，16 奈米从原本高阶市场主力，进一步拓展到中低阶市场，刘德音预估 16 奈米市佔的扩展，将成为明年营收优于去年的重要动能。
对于三星于 11 月**布已运用 10 奈米 FinFET 生产出 SRAM（静态随机存取记忆体），刘德音透露，台积电已经成功以 7 奈米製程产出 SRAM，10 奈米将在 2016 年初试产、7 奈米则有望于 2017 年**季试产，与今年 9 月台积电技术长孙元成，参与美国圣塔克拉拉举行的**平台论坛所言进度相同。
据孙元成当时说法，10 奈米在 2016 年底或 2017 年初将进入量产阶段，若依此转进进度，10 奈米阶段台积将有望超车英特尔，英特尔执行长 Brian Krzanich 在今年**季法说会上坦承，下世代（10 奈米）製程，大约到 2017 年下半才会推出。三星则在今年 6 月正式将 10 奈米 FinFET 製程纳入开发路图（Roadmap），估计 10 奈米在 2016 年底、2017 年初**投产，与台积电时间差不多。
值得关注的是，刘德音在昨 3 日的论坛向供应链伙伴预告，该开始准备 5 奈米了！虽未对相关时程多做说明，但也令外界相当期待，然而在 10 奈米以下製程微缩已经来到光学微影解析的极限，台积电年初透露在 10 奈米製程有部分光罩将採用极紫外光（Extreme Ultraviolet，EUV ）微影技术进行曝光，大摩 3 月份发表的报告也指出， EUV 将是台积电能否在 10 奈米以下製程超车的关键。
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