经部:联电携手大陆 成果共享 对台有利

分享到:
111
下一篇 >
联电携手大陆晋华研发DRAM技术,经济部工业局副局长吕正华昨天表示,该案为陆方出资,联电进行研发,成果双方共享;未来有机会收取技术授权金,建立台湾自主的DRAM技术,也可培养台湾自己的DRAM人才,合作案对台湾有利。

吕正华表示,据经济部投审会规定大陆地区投资技术合作许可办法,大陆晋华集团委托联电开发DRAM相关技术,属于技术合作类,不涉及关键技术投资;工业局大约在三、四月时接获投审会函询相关意见后同意。

吕正华表示,台湾主要DRAM设计、制程技术,都是向美光、三星、海力士取得授权,过去曾试图自主技术**,但因故作罢。国内DRAM厂的生产模式,如华亚科与美光合作,都是代工制程。

至于合作成果为双方共享,是否涉及技术外流?吕正华说,台湾本身没有DRAM自主技术,长期仰赖国外大厂授权,缴交权利金才能从事生产。如今“大陆出钱,台湾出力,成果共享”,没有技术外流问题。

你可能感兴趣: 业界新闻 DRAM
无觅相关文章插件,快速提升流量