三星与SK海力士将在HBM2市场正面对战

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三星电子(Samsung Electronics)与SK海力士(SK Hynix) 研发高频宽存储器HBM2(High Bandwidth Memory 2)规格DRAM已进入*后阶段,*快2016年上半就可量产,也意味着双方即将在超高速HBM2 DRAM市场过招。

HBM是应用直通矽晶穿孔(TSV)技术,大幅提高频宽的高速DRAM标准。HBM DRAM未来预期会搭载于下一代绘图处理器(GPU)、超级电脑、伺服器与网路装置上。可大幅减轻资料处理时的瓶颈现象,提升性能。据ET News报导,日前业界消息传出,2016年1月31日三星与SK海力士将在美国旧金山召开的2016国际固态电路研讨会(ISSCC)会上,发表HBM2规格的DRAM研发成果。

专家表示,ISSCC只接受完成样品生产阶段的论文发表,由此可知两家公司的产品研发作业已接近尾声,届时SK海力士将公开64GB HBM2,三星则可望推出每秒收发307GB资料,比标准HBM2更高速的产品。*快2016年上半就可量产。

HBM是矽晶粒(Die)透过TSV技术堆叠以增加频宽的形态。**代HBM以1.2伏特(V)工作电压,汇流频宽达1024bit,以1Gbps的速度收发资讯,每秒可处理128GB的资料,比目前*高速GDDR5快4倍以上。而HBM2的速度更快,资讯收发速度为2Gbps,每秒可处理256GB的资料。

由于HBM是在矽基板(interposer)上,以水平方式搭载系统单芯片(SoC)的系统级封装(SiP)形式供应,与SoC、封装业者的合作很重要。垂直堆叠4~8个DRAM晶粒中,只要有一个出问题就得全数废弃,因此良率管理是首要课题,初期价格也因此居高不下。

初期HBM DRAM标准化作业是由SK海力士与超微(AMD)主导。SK海力士量产的HBM*早搭载于AMD旗舰绘图卡Radeon R9 Fury X;而HBM2的标准化则又增加了三星、NVIDIA等多家厂商参与,未来量产后采用的产品应用范围可望更加广泛。

SK海力士计划以HBM*早商用化成功的案例积极吸引客户上门,目前NVIDIA与超微都已宣布将在下一代GPU中搭载HBM2,FPGA业者Altera也决定在未来的新产品上使用SK海力士的HBM2。

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