摩尔定律能“活”到2025年以后 中国半导体赶超有望

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在摩尔定律依然延续的今天,中国IC制造工艺与世界先进工艺如何缩小,这是不得不思考的问题。IMEC中国区总裁丁辉文近日指出,半导体工艺尺寸的缩小和摩尔定律仍能持续发展到2025年以后,中国半导体若能善用国际和国内资源,有机会在各领域赶超世界先进水平。

多元化应用需要多元化半导体技术

丁辉文认为,讲摩尔定律,其实首先是应用推动了芯片的成长,而在应用当中,主要是IoT、移动通讯、云端服务这三大应用市场。这三大应用对半导体器件有不同的要求:一是IoT应用,功耗在1mW到100mW;二是移动通讯部分,功耗是100mW到10W量级上的需求;三是云端服务,追求的是速度、速率、性能,在功耗上的需求可能在100W量级,这三大应用推动了整个半导体的研发以及半导体产业的发展。

丁辉文表示,针对各界在广泛讨论的IoT应用,功耗在毫瓦量级,根据功耗、性能,晶圆片上的节点大概28nm就足够了,不一定微缩到5nm、3nm。但从移动通讯市场来看,目前华为、中兴等**企业已经把手机芯片做到16nm,并且量产,现在正在做7nm的量产。这说明,如果做手机芯片一定还要沿着摩尔定律继续往前走。

摩尔定律将持续发展到2025年之后

丁辉文指出,每当摩尔定律走到一个难走状态,就会出现一些新技术突破。比如,目前出现三维FinFET,到往前走到2020年到7nm,还会出现其它的新方法,如SiGa channel、LNW,这使得半导体器件继续沿着摩尔定律往前走向前延伸。通过新的产品和技术、新的架构、新材料,再回到摩尔定律之上。

另外,IMEC也在研究神经网络计算、量子计算(quantum computing),替代传统晶体管,让整个摩尔定律延续下去。在他看来,摩尔定律将会持续到2025年以后。

丁辉文也介绍,IMEC做的是5nm、7nm研究,7nm已经几乎完成,再往前走IMEC还做2nm、3nm研究 “IMEC整个研发平台是从小于2nm做到5nm、7nm。”并且与合作伙伴一起进行逻辑工艺研发平台,涵盖65nm、45nm、28nm、20nm、14nm、10nm。

IMEC通过打造了一个完整产业生态,包括与Intel、三星、TSMC、海思、高通、ARM等公司,以及吸引了全部设备和材料业者,以及全球大概600家系统级厂商一起推动研究半导体器件发展。

在制造工艺上,中国如何赶超世界先进技术?

中国如何与世界先进工艺节点接轨?对此,丁辉文认为,可善用国际资源,当前pure play foundry模式,这种模式广泛被国际接受;然技术资源则可善用国际研究机构,如对标IMEC资源,在IP、数据、团队参与研发基础上做加法,避免重复投资,重复研发,掌握先机。

丁辉文表示,当前政府集中资源以基金扶植集成电路行业发展,“半导体工艺尺寸的缩小和摩尔定律能持续发展到2025年以后,中国半导体有成功的历史机遇,巧用国际和国内资源,中国有机会在各领域赶超世界先进水平。”

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