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东莞市穗诚真空设备有限公司
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公司简介
注册时间:
2005-11-02
联系人:
陈林光
电话:
13790696344(工作手机) 86 0769 85611173
Email:
xs_ym@sina.com
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真空镀膜设备(机)
产品图片
产品名称/型号
产品简单介绍
电磁兼容屏蔽(EMI)薄膜溅射系统
系列
本系统为塑料或金属部件表面EMI薄膜沉积单机型专用设备,其利用等离子体对被镀工件表面进行活化,采用磁控溅射方法沉积薄膜,免除涂漆前处理工艺,大幅降低工件加工成本,整机达到国际同类产品水平.可广泛应用于手机、笔记本电脑、电话和DVD等电子产品外壳制造加工领域。特点:单元技术先进、自
蒸发镀膜机
SV系列
本公司拥有一批高技术真空专业高级人才,具有综合开发,设计,制造,以及检测能力本公司产品畅销珠江三角洲,广泛适用于:真空电镀、干燥、浸渍、热处理、焊接、冶炼、冶药、医辽、化工、食品包装、印刷、半导体、电子器件、塑胶、建材、树脂玩具饰物等行业。 服务承诺:凡在本公司所购主机设备,均享有一年免费保修期,并终身提供技术服务支持。 欢迎来图订做非标真空设备系统!
ITO导电玻璃镀
ITO导电玻璃镀膜设备 本镀膜设备是在优质浮法玻璃上采用真空磁控溅射技术,孪生阴极,中频溅射技术,并配以国际先进的控制系统,镀制SO2/ITO膜层,生产过程全部自动,连续进行。
高真空卷绕镀膜机
整机采用计算机网络控制技术,配有人机界面和数据打印输出装置,真空系统全自动控制,并配有超低温冷捕集装置,蒸镀辊有冷冻与回温装置,卷绕系统采用四电机矢量变频器驱动,恒张力同步卷绕系统,收卷采用自动跟踪摆臂装置和实时控制可调弧形辊,通过卷绕工艺软件控制整个卷绕过程,蒸发舟采用顶夹式安装,并采用
多弧离子镀膜机
主要用途: 主要用于镀制电导膜、光学膜、保护膜、超硬膜、装饰膜等;适合于塑料、陶瓷、玻璃等基体的镀膜 主要组成: 设备由镀膜室、真空机组、充气装置、磁控溅射源、夹具、烘烤装置、电控及其它辅助装置组成。 主要特点:</STRONG
装饰镀膜机
高真空装饰镀膜机适用于在塑料、陶瓷等制品上真空蒸镀装饰铝膜。真空室型式:卧式圆筒状。规格:φ1400X1688mm. 极限压力(空载):5X10-3Pa 恢复真空时间 :105Pa-7X10-2Pa<8min。公、自转工件架,直流调速。双组蒸发器。真空抽气系统气动控制。蒸发自动控制。电器元件进口
墙幕玻璃磁控溅射镀膜设备
本厂生产的墙幕玻璃磁控溅射镀膜机,采用平面磁控溅射靶,可以在大平板浮法玻璃上镀制金属单质膜、复合膜、LE辐射膜,也可在小弯的弧形玻璃上镀膜。 ▲最大可镀玻璃尺寸:2440x 3300(毫米) ▲多真空室,多溅射室结构,可供用户选择,真空室之间有真空锁隔离。 ▲卧式磁控生产线有单端,双端形式,玻璃从清洗、镀膜、检测等一次完成。 ▲生产线采用PLC全过程控制,并配有彩色
高真空装饰镀膜机
主要用途 高真空镀膜设备可采用电阻加热式蒸发源、电子束加热式蒸发源,感应加热式蒸发源。可以蒸发金属,金属氧化物和非金属氧化物,适用于电子工业、光学工业的导电膜、光学膜、滤光膜、装饰膜等,如电子器件、塑料制品、制镜等。 主要组成 设备由真空镀膜室、蒸发源、卡具、真空机
平板型等离子增强化学气相沉积设备
技术指标:
ITO导电玻璃镀膜设备
本镀膜设备是在优质浮法玻璃上采用真空磁控溅射技术,孪生阴极,中频溅射技术,并配以国际先进的控制系统,镀制SO2/ITO膜层,生产过程全部自动,连续进行。 主组成部分: 真空室:不锈钢制造
立式双门真空镀膜机
本公司从事真空获得设备、真空应 用设备、真空工艺技术的开发、研制、生产、销售为一体的专业性新型高科技企业。拥有**的技术人才和检测设备,具有完整ISO9001质量管理体系。 产品广泛适用于电子、光学、轻工、冶金、食品、建材、陶瓷、塑料等行业。严格按照ISO9001质量体系进行生产及管理。确保
ITO玻璃镀膜生产线
全系列
产品:ITO透明导电玻璃、电脑显示防护屏、其他薄膜产品.生产能力:TN型ITO玻璃250,000m2年;STN型ITO玻璃200,000m2/年;电脑防护屏:1,000,000片/年; 主要技术参数:极限压力:2.0X10-3Pa镀膜玻璃尺寸:14"x14",14"x16",16
多功能镀膜设备
全系列
多功能镀膜设备是穗诚真空设备有限公司自行研制的真空镀膜设备系列产品之一。本设备集中了直流平面磁控溅射、直流圆柱磁控溅射、中频磁控溅射、多弧离子镀等多项镀膜技术。可分别对工件进行单层薄膜制备,也可依次对工件进行多层薄膜制备。本设备主要用于纯金属膜、合金膜、半导体膜、绝缘膜、陶瓷膜、各种装饰膜等薄膜的制备。所有靶的靶基距都可做成可调,适用于批量生产和科研开发。
磁控溅射镀膜机
全系列
用途: 本机是采用磁控溅射方式,镀制阳光控制膜和低发射率膜建筑玻璃的专用设备。它利用靶在镀膜室中的移动镀 制化合物/金属的多层膜系,以达到所要求的光学和装饰性能。 特点 * 单室单端,靶移动结构,满足镀膜工艺要求 * 装有二支高效旋靶磁控源,靶材利用率高 * 新设计的真空抽气系统,性能可靠、节电、降噪和延长泵的使用寿命 主要技术参数 * 基片尺寸:2000
立式装饰镀膜机
全系列
本机是蒸发和磁控溅射两用立式装饰镀膜机,主要适用于塑料、陶瓷、玻璃及金属材料表面镀制高档金属化装饰膜。 由于镀膜室为立式容器,所以它既具有卧式镀膜机的一切优点,又利于自重较大的镀件装卡,更可方便地实现自动化 生产线,是替代传统湿法水电镀的更为理想的新一代真空镀膜设备。 特点 * 配用改进型高真空排气系统,抽速快、效率高、节电、降噪和延长泵的使用寿命 * 实现蒸发镀全自
电容器专用卷绕真空镀膜设备
全系列
穗诚生产的电容器用卷绕真空镀膜设备,蒸发源系统采用一种特殊设计的结构,能生产出镀层均匀的高质量电容器薄膜。铝蒸发坩埚采用端部顶夹方式固定,可靠性好,维护方便。 CRC-650 / MP 型设备上装有铝蒸发器和锌蒸发器,具有镀铝、镀锌和镀铝锌复合膜的功能。 铝蒸发器:装有若干个氮化硼蒸发坩埚,采用直接加热和连续铝丝供料。每个坩埚的加热功率可以分别调节。 锌蒸发器:采用辐射加热方式
PVD离子镀膜机
全系列
替代传统氮化钛(TiN)离子镀技术的新一代耐磨蚀镀层技术装备。它采用低压离子枪辅助加强的非平衡磁控溅射技术,能镀制氮化铝钛(TiAlN),碳氮化钛(TiCN),氮化铬(CrN),氮化钛(TiN),氮化锆(ZrN)及类金刚石等超硬镀层。通过采用新的复合镀层原理和精确的工件转动结构,能保证同炉镀制出上述膜系的3种成分的多层(纳米级)复合镀层。研制成功的新的工模具镀层技术,可按工模具实际使用条件进
PVD离子镀膜设备
PVD技术是一种当前国际上最先进的并已在欧美国家广泛应用的离子镀膜技术。这种技术具有成本低,生产效率高,操作方便等特点,可以在广泛的基体上镀制不同材质的膜层以达到不同的要求与效果。PVD 技术目前在装饰镀膜与工具镀膜两方面得到广泛应用:将PVD膜(钛金、锆金)镀于钟表、首饰、五金、卫生洁具、灯饰、餐具、工艺制品等表面,可使其显出雍容华贵,光彩夺目的美
塑料真空镀膜机
本公司生产的SV系列塑料装饰高真穿镀膜机是蒸发式镀膜装置,在真空室中利用电阻加热法,将紧贴在电阻丝上的金属丝(铝丝)熔融汽化,汽化了的金属分子沉积于基片上,而获得光滑高反射率的膜层,达到装饰美化物品表面的目的。 该设备具有:结构合理,膜层均匀、成镜质量好、抽速大、工作周期短、生产效率高、操作方便、能耗低、性能稳定等优点。是目前装饰品、玩具、塑料、陶瓷行业的首选设备。 用户除可参照下列常用型号订货外