经中国国家知识产权局**复审委员会审理，德国科技集团贺利氏成功捍卫了两项涉及电解质电容器生产方法的**——CN101263568B和CN101263569B。
“贺利氏非常感谢中国国家知识产权局做出正确裁定。我们坚决反对他方侵犯我方**，并支持贺利氏客户打击假冒电容器产品。”贺利氏**副总裁BerndStenger坚定地表示。
作为导电聚合物领域的技术***，贺利氏拥有50多个**族，以保护其在固态电容、导电涂层以及其它有机电子相关领域的重要发明。
贺利氏推出的基于聚乙稀二氧噻吩（PEDOT）的水性导电聚合物产品CLEVIOSK，为钽电容器和铝电容器的**设计提供了更多的可能性。过去十年内，即便是在恶劣的环境条件下，电容器的电容、串联电阻和高稳定性等性能也能持续保持稳定。同时，电容的生产流程也在不断优化，从而进一步帮助客户提高产量。
近期，两项在中国经过授权的贺利氏基本**受到了第三方的挑战。这两项**涉及采用颗粒尺寸为1至100纳米的导电聚合物分散体生产电解质电容器的方法。中国国家知识产权局**复审委员会驳回了第三方质疑贺利氏**有效性的诉讼，裁定**的原有授权仍然有效。
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