胡正明能够获得“美国国家技术**奖”的殊荣，与其一生致力于电子科学的研究有关。1968年胡正明毕业于台湾大学电机系之后，即前往美国加州大学柏克莱分校深造，陆续取得柏克莱电机及计算机硕士、博士学位，致力于微电子科技的研究，陆续出版过四本专书，发表超过900篇论文，并拥有逾100件美国**，曾被美国电机暨电子工程师学会（IEEE）专家誉为“微电子前瞻者”。

尽管身在美国，但是胡正明一直心系台湾，因此他于2001年返台担任台积电的技术长，三年的产业之旅，除了将其在微电子领域的研究，贡献于台湾半导体产业，也为台积电建立技术人员管理与升迁制度，成为台积电长久发展的根基之一。

致力于发明 一生获奖无数

不受限于产业界的光明前景，自小就醉心于研究的胡正明，基于对技术研究与人才培养的热忱，毅然决然于2004年离开台积电，重返柏克莱分校担任微电子学教授，10几年来，不仅培育出更多**人才，其各种研究也陆续在许多地方崭露头角，如2011年二月获颁“年度美国亚裔工程师”大奖，美国半导体产业协会也因为胡正明对美国电子产业所促进的**与对美国经济带来的贡献，授与其协会的“大学研究奖”。

**技术 对晶片微缩带来极大贡献

谈起胡正明对电子科技带来的各种贡献，他所发明的三维“鳍型电晶体”（FinFET），以及完全“空乏型矽绝缘层金氧半电晶体元件”（fully-depleted silicon-on-insulator; FD-SOI），堪称两大**性**，两者皆为半导体超越摩尔定律（Moore's Law），带来新的契机。

其中，FinFET技术突破二维结构晶片持续微缩的僵局，让晶片得以持续微型化，并且解决漏电的问题，自2011年五月英特尔宣布使用此技术之后，包括台积电、三星、苹果也都陆续采用FinFET。同样地，FD-SOI也对晶片制程微缩带来贡献，近年来台积电与三星的16、14、10与7奈米制程，都仰赖FinFET技术。

素有“FinFET半导体之父”美称的胡正明提到FinFET技术，表示一开始是想要解决电晶体漏电的问题，因此找到如鱼鳍的立体结构，取代平面结构，解决漏电问题，同时也让电晶体在晶片上占有的面积缩小，提高晶片上可容纳电元的密度。“过去我们一直用平面结构来思考晶圆的发展，因此尺寸的缩小就有了极限，*后在发现电晶体不必是平面之后，既有的定律就会被打破。”胡正明说，研究就是这么神奇有趣的事情。

或许，为半导体制程微缩与晶片微型化带来贡献，是胡正明成为科学家之后的事情，但是谈起超越摩尔定律，胡正明回想起自己很小的时候，就一直思考一个问题：一张纸剪一半、再剪一半，可以剪到多小，终究会有无法再剪下去的一刻，这个问题始终困扰着他。或许，这也是成就胡正明发明微缩晶片技术，根深柢固的潜在因子。

成为“解决问题者”的三大要素

谈到鼓励年轻人投入**，胡正明说自己并不喜欢“**”两个字，倒是喜欢用“解决问题”，来阐述找出新事物的过程，而包括清楚自己喜欢做的事情、愿意接受训练、有信心，都是让自己成为解决问题者的关键因素。

“很多人数学不好，因此便觉得自己不适合当科学家或发明家，其实如果有兴趣，也可以接受训练，就可以投入研究，为世界解决问题。”胡正明坦言，自己的数学也不是很好，但喜欢研究事物的个性，倒是从小就有迹可循，例如父亲告诉他闹钟会响是因为有小人住在里面，他不相信，于是动手拆了闹钟，自己弄清楚闹钟响的原理。诸如此类的事件，不断在胡正明幼时生活中发生，显示出喜欢做、愿意动手做，才是成就发明的关键。

另外，他也提醒年轻人，要对自己有信心，有他人的夸奖自己要觉得幸运，没有别人的赞赏时，就要自己肯定自己，如此才有能量一步一步走下去。

运用新思维 扶植新产业

*后谈起半导体摩尔定律以及台湾半导体产业的发展，胡正明相信，任何物质总有它的极限，摩尔定律终究会有结束的**，但是他更坚信，随着人们生活的一切都跟晶圆牵扯在一起，往后很长的日子，半导体产业仍将在世界占据举足轻重的地位。

而面对摩尔定律的挑战以及全球不断趋于激烈的半导体产业竞争，他呼吁台湾政府与法人研究机构都要思考，当台湾已经建立具规模与国际竞争经验的私人企业之后，政府的产业政策，不能再像当年扶植新产业的做法一样，而是要用教育提供符合产业现况需求的人力资源，以及用政策鼓励帮助企业增加研发投资，让技术**与研发交给产业界。而法人组织也要有新的思维，包括从学校扎根培养人才、不要孤注一掷地把资源放在单一热门新产业，要与经营市场能力强的企业共同研发，才能在合理时间里创造就业与经济效益，对国家经济提供帮助。

谈起自己的发明，胡正明以教授耐心的口吻，详细说明个中原理；说到儿时喜欢做研究的趣事，胡正明一转口气并露出笑容，流露出其天真开怀的本性；论及国家产业的发展，胡正明又是一阵严肃，殷切地希望台湾各界要加快脚步做出改变，让产业可以加速向前迈进，充分显现出科学家的真性情。