关于传出科技部长杨弘敦私下透露台积电将斥资5,000亿元新台币在南科盖3纳米和5纳米制程晶圆厂，导致台积电董事长张忠谋“震怒”且认为有泄漏商业机密一事，台积电打破沉默发出四点声明。
日前报载科技部长杨弘敦12月初对外表示，台积电将投资5,000亿元在南科高雄园区建立3/5纳米制程生产线，且计划在2020年动工、2022年量产一事，导致台积电董事长张忠谋和高雄市长陈菊都震怒，因为认为科技部泄露投资商业机密的嫌疑。
台积电20日针对“科技部长快嘴副总统向张忠谋道歉”，以及“科技部长泄漏台积电投资机密惊动副总统向张忠谋道歉”事件做出四点声明：**，张董事长并没有为此事“气炸了”；**，张董事长并未投诉总统府；第三，半导体产业的先进制程的产能建置需要多年的规划，台积电3/5纳米的产能建置目前尚在规划阶段，至少还要一年以后才可能定案；第四，公司感谢政府协助公司未来发展所需之土地、水电供应及基础建设。
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