新思科技(Synopsys)新的Custom Compiler工具已获得台积电(TSMC)10奈米FinFET制程以及7奈米先期设计(early design starts)的认证，可支援前述制程必备的技术，包括轨道图形(track-pattern)支援、着色辅助(coloring assistance)、电荷感知布线(electrical-aware layout)、EM/IR检查及寄生参数感知分析(parasitic-aware analysis)等，并能供双方客户使用。
Custom Compiler让FinFET设计的完成时间从数天缩短至数小时。其自动化视觉辅助设计流程，利用布局设计人员所熟悉的图像使用模型(graphical use model)，以减少编写复杂程式码及限制条件。藉由Custom Compiler，无须额外设定便能自动执行例行性及重复性的任务。
Custom Compiler的自动化视觉辅助提供四种辅助工具，包括：布局(Layout)辅助、设计中(In-Design)辅助、范本(Template)辅助以及协同设计(Co-Design)辅助。布局辅助可利用使用者导引(user-guided)的布局绕线自动化，加速完成布局规划；设计中辅助透过在signoff验证之前即撷取物理(physical)及电性(electrical)误差，以减少设计重复；范本辅助能协助设计人员重复使用既有的客制化布局技术，让先前的布局决策更容易运用在新的设计中；协同设计辅助则结合IC Compiler与Custom Compiler，提供客制化及数位实作整合解决方案。
Custom Compiler乃根据业界标准Open Access资料库所开发，提供范围扩及电路图(schematics)、模拟分析及布局等开放环境。Custom Compiler与新思科技的电路模拟、实体验证(physical verification)及数位实作(digital implementation)等工具整合，可提供**性的客制化设计解决方案。
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