事实上，对于 7 纳米制程，三星和台积电两大晶圆代工龙头都早已入手布局，以便争夺 IC 设计业者们的订单。其中，日前传出三星原定在 2018 年破土动工的韩国华城 18 号生产线，动工时间已经被提前到了 2017 年的 11 月，以便在 2019 年能够进入 7 纳米制程的量产阶段。其中，18 号生产线将会架设 10 多台极紫外光（EUV）设备，以强化生产效能。
至于，台积电在 7 纳米制程的布局，根据台积电高层之前在法说会上的说法，表示目前已经有 12 个产品设计定案，这使得**代 7 纳米制程将会在 2017 年底或 2018 年达成量产。至于，**代的 7 纳米制程则会在 2019 年达成量产的目标，制程中也将导入EUV的技术。因此，在不论是三星，或者台积电都将在 7 纳米制程上都将引入 EUV 技术的情况下，而这种被视为延续摩尔定律的设备，正是被寄望能推动未来制程进步的重要关键。
因此，就 7 纳米制程这个节点的状况来看，在一定程度上也是被 EUV 设备所控制，而 EUV设备却是被荷兰半导体设备厂商艾司摩尔 (ASML) 所控制的。ASML 是一家从事半导体设备设计、制造及销售的企业，自 1984 年从飞利浦独立出来之后，在 2016 年先后宣布收购汉微科及蔡司半导体 24.9% 股份。而这家垄断了**光刻机市场的厂商，其股东中就包含英特尔 (intel)、台积电和三星。根据 ASML 公布的 2017 第 2 季财报，公司单季的营收净额为 21 亿欧元，毛利率为 45%。
由于，EUV 的研发难度非常大。因此，也造成单价的居高不下，每一台的价格约在高昂 1 亿欧元上下。而且，这种价值连城的设备还不是有钱就能买到的。例如受限于 《瓦圣纳协定 (The Wassenaar Arrangement on Export Controls for Conventional Arms and Dual-Use Good and Technologies)》，中国的厂商就买不到这种*高阶的光刻机设备。此外，由于 ASML 的 EUV 年产量也只有 12 台，包括三星及台积电几乎已经抢光了 2017 到 2018 年所有产能的情况下，即便有报导称 ASML 正在提升生产效率，希望在 2018 年将产能增加到 24 台， 2019 年达到 40 台，但仍不足以应付市场的需求。使得中国厂商即使有机会购买 EUV 设备，短期恐怕也都要落空。
当前，对于大力投入集成电路发展的中国来说，虽然买不到 ASML 的 EUV 设备，但是也寻找其他方式希望能有所突破。例如 2017 年 3 月，上海微电子装备（集团）就与 ASML 签署了合作备忘录。6 月时，上海集成电路研究开发中心又宣布与 ASML 合作，将共同建立一个培训中心。另外，由中国本地的长春光机所带领的极紫外光刻关键技术研究专案，也在 2017 年 6 月启动。而这些计划，都是中国希望能在 EUV 设备销售限制上能有所突破准备。但是，实际上在未来是不是真的能有所进展，达成*后的目标，就还有待日后的持续观察。
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