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1 2018年01月26日 星期五浙江**微纳智造小镇落户杭州临安
中国电子报 (0)本报讯 近日，浙江**以“智能传感”命名的小镇——青山湖微纳智造小镇在杭州临安区青山湖科技城开园。青山湖微纳智造小镇规划总面积3.17平方公里，由青山湖科技城、中电海康集团、上海微技术工业研究院、浙江省物联网产业协会等共同打造。小镇规划了**创业园、众创服务区、产业孵化区等功能区块，以智能传感器及芯片设计研发、封装测试和智能传感器应用集成为产业方向，将围绕智能传感器产业上下游，形成产业示范带动作用。“它有望成为我国智能制造领域的重要拼图，扭转中国‘缺芯’的尴尬局面。”浙江省科技厅厅长周国辉说。开园当天，国家智能传感**中心（筹）青山湖中心、中国科学院光电研究院超快激光技术研发中心、国家光学仪器工程技术研发中心智慧光子研究中心等10个首批入驻小镇的项目举行了签约仪式。科技含量高、现实意义强，是这些项目的重要特征。比如，国家02专项光刻机浸液系统研制与中试基地项目将集中力量研发浸没式光刻机的核心部件之一浸液系统。该项目有望打破国外垄断，打造拥有自主知识产权的**光刻机设备，甚至对于我国芯片产业发展都具有重大意义。
适度整合 努力促进材料纵横双向发展
中国电子报 (0)在进入21世纪后中国的光刻胶在其原来落后的基础上开始走入一个增长期，特别是2012年以后这个增长速度在加快，2012年时中国做光刻胶的只有五家：苏州瑞红、潍坊星泰克、中科院化学所、北师大与北京科华；而到了2017年，中国的光刻胶企业增长到15家之多。看到这样的急速增长，我们喜忧参半，喜的是有越来越多的企业参与光刻胶的工作，中国光刻胶的春天到了；忧的是这是一个冷僻的行业，在全球的市场不足15亿美元，在中国2017年也就是20亿元人民币左右的市场，真需要这么多企业投入吗？更可悲的是这20亿元的市场中**胶占了14多亿元，而目前只有北京科华一家有产品投放市场。也就是说，目前中国的十几家光刻胶公司（其中不乏上市公司），只是在5亿元的市场中厮杀。随着光刻胶档次的提高，光刻胶企业数量呈骤减趋势。上世纪90年代，光刻胶走入化学增幅也就是进入**光刻胶之前，由于光刻胶的丰厚利润，从事的企业近百家；随着上世纪末本世纪初光刻胶进入化学增幅也就是我们俗称的CAR体系，光刻胶企业的投入呈十倍以上的增长，真正投入建设光刻胶**线的只有六家，后来北京科华在国家02重大专项的支持下建设了第七条**KrF（248nm
灿芯吴汉明:光刻工艺被“垄断”，其究竟“难”在哪里？
科技日报 (0)3月5日上午9时，十三届**人大一次会议在人民大会堂开幕，今年的政府工作报告提出，**实施战略性新兴产业发展规划，加快新材料、人工智能、集成电路、生物制药、第五代移动通信等技术研发和转化，做大做强产业集群。 “振兴制造业”是目前世界上主要工业国家维持其经济发展、保护国家**的主要措施之一。而在制造业中，集成电路制造集中体现了工业**化的各种特征，是制造业**的基石。令人堪忧的是，由于我国的产业规模过小，技术发展滞后，无法满足国内市场的旺盛需求，导致我国的集成电路进口额每年大幅上升——仅在2013年上半年进口总额达到1100多亿美元，超过了原油，成为**大进口产品，相当于铁矿石+粮食+铜+成品油四大战略物资进口的总和。近几年，这一数字更是跃至2300亿美元。高额数字背后，不禁让人担忧，我国集成电路的发展现状究竟如何？如何能摆脱依赖进口的窘境？日前，科技日报记者专访了灿芯创智微电子技术（北京）有限公司总裁、中芯国际集成电路制造有限公司顾问吴汉明，让他出招如何才能破解集成电路的发展之困。从无到有经历四个奋进阶段吴汉明说，在集成电路制造产业领域，我国还处于“追赶”时代。从无到有的创业历程，可分
晶瑞股份：G5 高纯试剂及光刻胶技术 公司迈入成长快车道
申万宏源 (0)公司是国内**的微电子化学品研发生产企业，近三年业绩稳步增长。公司生产超净高纯试剂、光刻胶、功能性材料和锂电池粘结剂四大类微电子化学品，应用于半导体、光伏太阳能电池、LED、平板显示和锂电池等五大下游行业。受益于超净高纯试剂及锂电池粘接剂需求持续增长，公司近三年业绩稳步向上。2015-2017年营收和归母净利润CAGR分别为29.5%/13.4%。2017年公司营收和归母净利润分别为5.35/0.36亿元，同比增长21.5%/6.7%。2018Q1苏州瑞红变为全资子公司，阳恒纳入合并报表范围，实现营业收入1.62亿元，同比增长45.9%，归母净利润929万元，同比增长43.2%。 半导体行业产能向国内转移，平板显示厂商加码高世代线，下游需求快速增长，进口替代空间大。据SEMI数据统计，2017-2020年全球将有62座晶圆厂完成新建，其中逾4成新厂在中国大陆，IC制造产能正逐渐向中国大陆转移；国内主要平板显示厂商加码高世代LCD平板产线，预计2019年起放量增长；太阳能光伏电池稳定增长，市场空间大。三大产业对湿电子化学品、光刻胶需求旺盛，但国内技术储备相对不足，8寸以上晶圆所需超净高纯
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2 2017年08月04日 星期五ASML去年获利大涨44％宣布股票回购
集微网 (0)集微网消息，荷兰半导体设备大厂艾司摩尔（ASML）周三宣布去年营收、获利**高，并在今年实施规模25亿欧元（约31亿美元）股票回购计划。 去年该公司营收成长33％至90.5亿欧元，净利成长44％至21.2亿欧元，主因是部分订单营收提前在去年第4季入账，使第4季营收、获利大涨。2017年第4季财报营收季增4.7%至25.61亿欧元；毛利率自2017年第3季的42.9%升至45.2%；纯益季增15.6%至6.44亿欧元。综合来看，ASML 2017年营收年增33.2%至90.53亿欧元、毛利率自44.8%升至45.0%、纯益年增44%至21.19亿欧元。究其增长原因，ASML CEO Peter Wennink指出，去年第四季度部份客户要求芯片光刻设备提前出货，加上提前认列两台极紫外光光刻设备(EUV)营收，带动2017年营收、纯益强劲增长，双双创下历史新高。Wennink表示，展望本季，ASML预估营收将达22亿欧元(相当于季减14.1%)、毛利率预估将介于47-48%之间。2018年ASML预期销售和盈利能力将持续稳健增长。截止去年7月，ASML在 EUV 光刻机累积的订单已达 27
02专项光刻机浸液系统项目入驻杭州青山湖科技城
集微网 (0)集微网消息，据浙江在线报道，近日，国家02科技重大专项之一“28nm节点浸没式光刻机产品研发”的核心部件“光刻机浸液系统”项目签约入驻杭州青山湖科技城。 目前，该项目已拥有60余项发明**，团队现有研发人员100余人。同时，该项目总投资5亿元，拟在青山湖科技城核心区新增用地25亩。“28nm节点浸没式光刻机产品研发”针对的是**光刻机。这是集成电路装备中技术难度*高的关键设备，目前，全世界只有少数几家公司能够制造。相关负责人介绍，该项目有望打破国外垄断，打造拥有自主知识产权的**光刻机设备，对于我国芯片产业发展具有重大意义。
上海新阳设立韩国子公司研发黑色光刻胶，打破日韩垄断
集微网 (0)集微网消息，上海新阳 8 月 2 日发布公告称，公司为不断拓展公司业务范围及产品应用领域，寻求纵深发展进入面板显示新市场，同时为公司开发集成电路制造用**光刻胶打下基础，公司拟以自有资金在韩国设立全资子公司，开展面板显示用黑色光刻胶开发。子公司名暂定为新阳（韩国）半导体材料株式会社（*终名称以实际工商登记为准），注册资本 200 万美元。 据悉，2015 年中国平板显示用黑色光刻胶市场需求量约 0.6 亿美元。随着面板制造向中国转移，预计到 2020 年，黑胶市场需求将达到 1.5 亿美元。而目前面板产业所需的彩色滤光片材料（黑色光刻胶和彩色光刻胶材料）的核心技术基本被日本和韩国企业垄断，国内企业市场份额仅 5% 左右。上海新阳开发的黑色光刻胶项目，目标在 2018 年底至少通过一家面板显示企业的*终验证，预计在 Q2 开始实现销售，初步目标为 1000 万元；2022 年达产年实现销售 1 亿元。上海新阳国内半导体专用材料细分领域龙头企业，研发实力雄厚。公司下游客户包括长电、华天、通富、中芯国际等国内龙头封测厂和 Foundry。2008 年以来，公司三次承接国家“02专项”，研发实
KLA-Tencor宣布推出针对光学和EUV 空白光罩的FlashScanTM产品线
KLA-Tencor (0)KLA-Tencor公司宣布推出全新的FlashScanTM空白光罩*检测产品线。自从1978年公司推出**台检测系统以来，KLA-Tencor一直是图案光罩检测的主要供应商，新的FlashScan产品线宣告公司进入专用空白光罩的检验市场。光罩坯件制造商需要针对空白光罩的检测系统，用于工艺开发和批量生产过程中的缺陷检测，此外，光罩制造商(“光罩厂”)为了进行光罩原料检测，设备监控和进程控制也需要购买该检测系统。 FlashScan系统可以检查针对光学或极紫外(EUV)光刻的空白光罩。“先进的光刻技术从表征良好的空白光罩开始。” KLA-Tencor的光罩和宽带等离子晶圆检测部总经理熊亚霖博士指出，“无缺陷的EUV光罩坯件极难制造，这不仅推高了生产成本，也推延了EUV光刻可能带给新一代芯片制造的惠益。 我们全新的FlashScan空白光罩检测仪可以在裸基板，吸收膜和光阻涂层上捕获各种类型的缺陷。此外，对比目前市场上的其他系统， FlashScan系统具有更高的产量和灵敏度，这将缩短空白光罩制造商和光罩厂的学习周期时间。”利用KLA-Tencor晶圆缺陷检测系统的激光散射技术，FlashS
鲁道夫OLED显示屏接受中国订单
OFweek显示网 (0)据外媒报道，软件开发商鲁道夫（Rudolph Technologies）日前表示，已经收到了来自中国**个客户的JetStep G光刻系统订单，用于下一代有源矩阵有机发光二极管（AMOLED）显示器的试产线生产。 Rudolph Technologies公司营销副总裁Elvino da Silveira表示：“AMOLED面板市场目前正在快速增长，事实上，UBI Research预计到2020年该市场将每年增长近40%。目前越来越多的公司通过开发自己的知识产权进入这个市场，特别是在中国。”由于性能和外形尺寸，AMOLED显示器在智能手机和可穿戴设备中的应用增长速度很快。JetStep G光刻系统通过提供更精细的分辨率和更紧密的叠加层来满足AMOLED显示器对更高性能晶体管的要求。此外，专有的实时放大倍率补偿和自动对焦功能可实现柔性衬底光刻。da Silveira指出：“客户继续投资于Rudolph独特的光刻解决方案，用于其研发和试生产线，因为它能够更轻松、更低成本地验证各种新工艺。JetStep系统在具有高水平的产品更换和降低成本的试产线环境中特别有用。例如，JetStep面罩套件是用
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3 2017年05月03日 星期三上海新阳投资200万美元在韩设全资子公司
集微网 (0)集微网消息，上海新阳8月2日晚间发布公告，公司为不断拓展公司业务范围及产品应用领域，寻求纵深发展进入面板显示新市场，同时为公司开发集成电路制造用**光刻胶打下基础，公司拟以自有资金在韩国设立全资子公司，开展面板显示用黑色光刻胶开发。子公司名暂定为新阳（韩国）半导体材料株式会社（*终名称以实际工商登记为准），注册资本 200 万美元。 公司称，该公司的设立，有助于公司在市场、技术、产品、服务、人才等多方面进行完善，并实现国内外优势互补，对拓宽公司业务渠道，增强公司的综合实力，将产生积极的影响。该项目有利于公司做强、做大和长远发展，符合公司战略发展规划，符合公司及全体股东的根本利益。
苏州晶瑞获IPO批文 2016年公司营业收入4.4亿元
中国网 (0)中国网财经5月2日讯 证监会上周五核发10家IPO企业批文，苏州晶瑞化学股份有限公司(以下简称“苏州晶瑞”)获通过。 苏州晶瑞此前披露的招股书显示，公司拟在创业板公开发行新股2206.25万股，发行后总股本为8824.99万股。本次IPO所募资金7000万元补充流动资金，其余的将投向超净高纯试剂、光刻胶等新型精细化学品的技术改造项目、研发中心项目和销售技术服务中心项目。主承销商为招商证券(15.850, -0.09, -0.56%)。公开资料显示，苏州晶瑞专业从事微电子化学品的产品研发、生产和销售二十多年，生产的四大类微电子化学品均为下游五大新兴行业的关键材料。公司经过多年研发和积累，部分超净高纯试剂达到国际*高纯度等级(G5)，打破了国外技术垄断，制定了多项行业标准;光刻胶产品规模化生产24年，达到国际中**水准，是国内*早规模量产光刻胶的少数几家企业之一。据了解，苏州晶瑞2014-2016年营业收入3.36亿元、3.19亿元和4.4亿元，净利润5876.16万元、3905.82万元和4407.42万元。
上海微电子采购Bumotec机床 加速中国光刻机研发
达普芯片交易网 (0)去年，一台价值1.06亿元设备经空运从荷兰飞抵厦门，由于该设备价值高，而且对保存和运输有着很高的要求——保存温度必须保持在23摄氏度恒温状态下，为了避免影响设备的精度，在运输中也对稳定性有极高的要求。因此，机场海关以机坪查验的方式对该货物实行全程机边监管，待货物装入特制温控气垫车后移至海关的机坪视频监控探头之下，在完成紧急查验后当晚就放行。上海微电子采购Bumotec机床加速中国光刻机研发没错，这台设备就是荷兰ASML的光刻机。**猜测，这台设备很有可能是厦门当地政府与台湾联华电子合资的晶圆厂从荷兰ASML采购的。不过，由于西方瓦森纳协议的限制，中国只能买到ASML的中低产品，这一点从厦门当地企业进口的光刻机报价仅1亿人民币就可以看出来了。目前，光刻机领域的龙头老大是荷兰ASML，并已经占据了高达80%的市场份额，垄断了**光刻机市场，日本尼康在**光刻机上完全被ASML击败，即便尼康的ArF光刻机售价仅为ASML的一半也无补于事。Intel、台积电、三星用来加工14/16nm芯片的光刻机都是买自ASML，格罗方德、联电以及中芯国际等晶圆厂的光刻机主要也是来自ASML。更关键的是，*先
上海集成电路研发中心与ASML合作在上海建培训中心
中国电子报 (0)本报讯 6月21日，上海集成电路研发中心有限公司（ICRD）与阿斯麦（ASML）签署合作备忘录，将于近期宣布在上海合作共建一个半导体光刻人才培训中心。基于此合作备忘录，双方将进一步探索其他的合作内容与模式。双方计划将研发中心现有的洁净室设施与教室作为培训中心，而配套的光刻及测量设备则由ASML提供。ASML还将派出经验丰富的光刻工程师参与授课。此次合作旨在对ASML的客户支持团队、现有客户以及中国集成电路企业内的工程师展开技术培训，让他们通过系统连贯的学习与知识**来提升作为光刻专业工程师的技能。此次ICRD与ASML共建光刻人才的全球培训中心，必将大大提高中国集成电路产业在**和专业技术人才方面的培养力度。 （文 编）
中国半导体设备制造需持续技术突破 低价“套路”不可取
达普芯片交易网 (0)在极大规模集成电路制造装备及成套工艺专项(简称“集成电路专项”)以及其他国家相关产业政策的推动下，近年来我国半导体设备产业取得较快进步，部分关键设备从无到有，实现了与国际先进技术水平的同步发展。同时，部分国产设备进入大生产线，在产业化进程上取得突破。在此情况下，如何让产品在推向市场的过程中获得合理的利润，以利持续发展，成为国产设备厂商关注的重点。半导体设备国产化率提升存挑战中国半导体行业要想实现从跟随到**的跨越，设备产业的成长是重要环节之一。但是半导体设备行业却存在技术难度大，进入门槛高的特点。目前为止，我国半导体设备领域仍然存在着国产化率较低的问题。对此，半导体专家莫大康指出，上世纪80年代末期开始，半导体设备企业开始把工艺能力整合在设备中，让用户买到设备就能保证使用，并且达到工艺要求。因此有“一代器件，一代设备”之说。这是半导体设备如此昂贵的原因，也是国内企业面对的极大挑战。此外，一台设备从研发、样机开始，必须经过大量硅片通过等工艺试验，才能发现问题，并进行改型。这样的过程要重复多次，改型多次后才能*后定型。另外，出厂前还要经过马拉松试验，测算平均无故障时间等。这对实力尚弱的国产
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4 2017年03月21日 星期二
ASML反诉尼康**侵权
集微网 (0)集微网消息，全球第三大半导体设备制造商ASML于4月28日表示，已对尼康(Nikon)提出反诉。 ASML解释该事件的来龙去脉，ASML和Nikon在2004年签订了一项**交叉授权协议，部分**已获**授权，其他**的授权日期已于2009年12月31日结束，双方同意互不采取法律移动的过渡期也在2014年12月31日结束。ASML总裁暨执行长Peter Wennink强调，在过去几年里， ASML曾多次尽全力试图与Nikon就交叉授权协议延展一事进行协商，但Nikon没有为此做出任何真正的努力，反而选择控告ASML**侵权，公司对此感到失望。Peter进一步强调，ASML始终相信，双方能以协商的方式来解决，对半导体产业而言是好的，可以推动产业的**与合作，更可减少这类让产业无法集中精力在真正重要事情上的不必要**诉讼案件，且Nikon提起的诉讼毫无根据，这将为整个半导体产业带来不确定性。据路透社4月24日消息，日本尼康 宣布在荷兰、德国与日本针对 ASML（艾司摩尔） 和合作伙伴卡尔蔡司 （Carl Zeiss AG）的**侵权提起诉讼，并表示 ASML 及 Carl Zeiss 两家
我国石墨烯微型超级电容器件技术研究获进展
中科院 (0)近日，中国科学院大连化学物理研究所二维材料与能源器件研究组研究员吴忠帅团队利用紫外光还原氧化石墨烯技术，一步法实现了氧化石墨烯的还原与石墨烯图案化微电极的构筑，批量化制备出不同构型的微型超级电容器。相关研究成果发表在ACS Nano（DOI：10．1021／acsnano．7b01390）上。 柔性化、微型化、智能化电子产品的快速发展，促进了微型超级电容器等储能器件的进步。传统微纳加工技术，如湿法光刻，操作繁琐、过程复杂、成本较高，不适宜批量化生产。此外，以氧化石墨烯为前躯体制备的微型超级电容器，还需要增加化学还原或热还原等步骤。因此，高效、低成本、大规模生产石墨烯微型超级电容器件技术仍面临诸多挑战。该研究团队利用紫外光还原氧化石墨烯技术，实现了氧化石墨烯的高效还原与石墨烯微电极的图案化一步完成，并批量化制备出不同构型的微型超级电容器。与现有制备技术，如湿法光刻、喷涂打印不同，该技术具有操作流程简单、成本低、条件温和等特点，并能够高效构建出不同构型、集成化的微型功率源。制备得到的电容器在离子液体中表现出较高的扫描速率（200V／s）、能量密度（7．7mWh／cm3）和功率密度（312W
我国在新型直接光刻设备研发中抢占先机
中科院 (0)近日，一种新型的中紫外直接光刻机由中国科学院光电技术研究所微电子专用设备研发团队在国内研制成功。该设备采用特有的高均匀、高准直中紫外照明技术，结合光敏玻璃材料，实现基于光敏玻璃基底的微细结构直接加工，能够极大简化工艺流程，将有力促进光敏玻璃微细结构的光刻工艺技术“**”，目前在国内尚未见有此类产品成功研发的报道。 光刻设备是用于微细结构加工的核心设备，在微电子、生物、医学和光学等领域得到**应用。由于光刻工艺的限制，原有光刻设备大多是针对光刻胶曝光进行技术研发。而针对玻璃基底的微细结构加工具有特殊性：光敏玻璃光谱敏感特性不同于光刻胶、微细结构深宽比大和完全非接触曝光。近年来，针对玻璃基底的微细加工技术愈发重要，在微流控芯片、微光学元件以及OLED显示屏等新型微细结构的加工中需求迫切，也是国内外光刻设备研发的重要方向之一。因此，光电技术研究所微电子专用设备研发团队联合国内外科研机构，开展了汞灯光源、大口径高精度反射镜、中紫外镀膜和间隙测量等技术研发，成功提高了汞灯光源中紫外光谱能量，通过反射式光路结构保证光能利用率和准直性，精密间隙测量和控制技术实现非接触曝光，并进行了光敏玻璃直接光刻实
ASML **季度EUV系统未出货订单累计达21台
SEMI (0)ASML4月19日公布2017**季财报：营收净额 (net sales) 19.4亿欧元，毛利率 (gross margin) 为47.6%，EUV极紫外光光刻系统的未出货订单则累积到21台，价值高达23亿欧元。ASML预估2017**季营收净额 (net sales) 将在19~20亿欧元之间，毛利率 (gross margin) 约为43~44%。 ASML总裁暨**执行官Peter Wennink 指出， 积极的产业环境为2017年提供了一个的强劲开始，我们预估这样健康的市场需求将持续今年一整年。我们看到客户对于DUV的强烈需求。由于有些客户选购效能升级方案来优化他们现有的浸润式机台，因此我们的服务和升级业务在**季度的表现也非常好。我们预估这样的趋势将延续到**季。“EUV极紫外光光刻系统正进入量产阶段，订单持续涌入，目前的未出货订单已累积到21台。” Peter Wennink说。 **季产品重点摘要?深紫外光 (DUV)光刻: 持续出货NXT:1980浸润式光刻系统给内存客户及逻辑芯片客户来进行10nm量产和7nm制程开发，目前NXT:1980浸润式系统的累积装机量已提达
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