江苏苏州日本分光干渉式晶圆膜厚仪 SF-3
产品简介
非接触式、非破坏性光学式膜厚检测 采用分光干涉法实现高度检测再现性 可进行高速的即时研磨检测 可穿越保护膜、观景窗等中间层的检测 可对应长工作距离、且容易安裝于产线或者设备中 体积小、省空間、设备安装简易 可对应线上检测的外部信号触发需求 采用*适合膜厚检测的独自解析演算法。(已取得砖利) 可自动进行膜厚分布制图(选配项目)
产品详细信息
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SF-3 |
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膜厚测量范围 |
0.1 μm ~ 1600 μm※1 |
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膜厚精度 |
±0.1% 以下 |
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重复精度 |
0.001% 以下 |
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测量时间 |
10msec 以下 |
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测量光源 |
半导体光源 |
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测量口径 |
Φ27μm※2 |
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WD |
3 mm ~ 200 mm |
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测量时间 |
10msec 以下 |
※1 随光谱仪种类不同,厚度测量范围不同
※2 *小Φ6μm
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