磁控溅射镀膜机 全系列
产品简介
用途: 本机是采用磁控溅射方式,镀制阳光控制膜和低发射率膜建筑玻璃的专用设备。它利用靶在镀膜室中的移动镀
制化合物/金属的多层膜系,以达到所要求的光学和装饰性能。
特点
* 单室单端,靶移动结构,满足镀膜工艺要求
* 装有二支高效旋靶磁控源,靶材利用率高
* 新设计的真空抽气系统,性能可靠、节电、降噪和延长泵的使用寿命
主要技术参数
* 基片尺寸:2000
产品详细信息
用途: 本机是采用磁控溅射方式,镀制阳光控制膜和低发射率膜建筑玻璃的专用设备。它利用靶在镀膜室中的移动镀
制化合物/金属的多层膜系,以达到所要求的光学和装饰性能。
特点
* 单室单端