LPCVD CL

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产品型号:CL
 牌:其它品牌
公司名称:青岛晨立电子有限公司
  地:山东即墨
发布时间:2009-06-27
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产品简介

用于半导体器件工艺中氮化硅、二氧化硅、多晶硅薄膜的制备.

产品详细信息

  主要技术指标:

  工作温度:        4001000

  恒温区:          600 mm

  恒温区温度梯度:  ±30

  极限真空度:      1 Pa

  工作压力:        30133 Pa

  送料机构:        自动悬臂舟/手动

  控制系统:        触摸屏+PLC 工艺全自动

                   单片机+欧陆表工艺全自动

  气路系统:        进口MFC  气动阀  VCR接口

  真空系统:        机械泵+罗茨泵+抽气冷阱

  膜厚均匀性:      片内、片间、批次间±5%

  特气柜:          可配备标准特气柜

 

 

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