德国NanoPhotonics公司成立于1997年，其设备主要用于半导体生产中裸芯片表面，边缘，背面的沉积材料及基片的缺陷探测，可用于基板如检测掩模板（光罩）上的颗粒、划痕、缺陷、微米级粗糙度等。

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