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上海卷柔新技术有限责任公司
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原来如此!AR 镀膜减反射工艺的关键制备流程大公开

原来如此!AR 镀膜减反射工艺的关键制备流程大公开

需要增透减反技术可以联系我们上海工厂

上海卷柔新技术光电有限公司是一家专业研发生产光学仪器及其零配件的高科技企业,公司2005年成立在上海闵行零号湾创业园区,专业的光电镀膜公司,技术背景依托中国科学院,卷柔产品主要涉及光学仪器及其零配件的研发和加工;光学透镜、反射镜、棱镜,平板显示,安防监控等光学镀膜产品的开发和生产,为全球客户提供上等的产品和服务。

摘要:本文详细阐述 AR 镀膜减反射工艺的关键制备流程,从基片预处理的清洗、抛光,到镀膜过程的物**相沉积、化学气相沉积等核心技术,再到后处理的退火与质量检测,结合技术原理与实际应用案例,系统展示各流程对实现高效减反射性能的重要作用,为相关领域人员提供**技术参考。

关键词:AR 镀膜;减反射;制备流程;物**相沉积;化学气相沉积

在智能手机、相机镜头、太阳能板等产品中,AR 镀膜减反射工艺让我们享受更清晰的视觉体验和更高的能量转换效率。这项神奇工艺背后,是一系列精密复杂的制备流程。今天,就为大家揭开 AR 镀膜减反射工艺关键制备流程的神秘面纱。

一、基片预处理:打造**基底

基片预处理是 AR 镀膜的首要环节,如同建造高楼的地基,决定着*终镀膜效果的好坏,主要包括清洗和抛光两大步骤。

(一)清洗:去除杂质,保障结合力

基片表面往往附着灰尘、油污、指纹等杂质,若不彻底**,会影响镀膜层与基片的结合,导致膜层脱落、气泡等问题 。常见的清洗方法各有优势。

超声波清洗利用超声波在液体中产生的空化效应,产生强大冲击力,将基片表面杂质震落 。在清洗手机屏幕玻璃基片时,超声波能快速**表面灰尘和指纹。等离子清洗则通过等离子体中的活性粒子与杂质发生化学反应,同时利用离子轰击,实现深度清洁和表面活化 。这种清洗方式不仅能去除顽固杂质,还能提高基片表面的亲水性,增强镀膜层附着力。化学溶液清洗依靠特定化学试剂与杂质反应,将其溶解或转化为易去除物质 。清洗光学镜片基片时,专用光学清洗剂可有效去除表面氧化物和油脂。

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(二)抛光:降低粗糙度,优化光学性能

抛光的目的是降低基片表面粗糙度,使表面更加平整光滑,减少光散射和反射异常 。对于高精度光学元件,如相机镜头、望远镜镜片的基片,抛光要求极高。

磁流变抛光利用磁流变液在磁场作用下的流变特性,形成 “柔性固着磨具”,可精准去除基片表面凸起部分,将表面粗糙度降低到纳米级 。离子束抛光通过高能离子束轰击基片表面,以物理溅射方式实现超精密抛光 。这种方法能**控制抛光量,确保基片表面平整度,为后续镀膜提供理想基底 。

二、镀膜过程:核心工艺实现减反射

镀膜过程是 AR 镀膜减反射工艺的核心,通过不同技术将镀膜材料沉积在基片上,形成具有减反射功能的膜层。目前常用的镀膜方法主要有物**相沉积、化学气相沉积等。

(一)物**相沉积(PVD)

  1. 真空蒸发镀膜

    :真空蒸发镀膜是 PVD 的传统方法。将镀膜材料(如二氧化硅)放入真空室内的蒸发源,加热至蒸发温度,材料变为气态原子或分子 。这些气态粒子在真空中自由飞行,遇到基片后沉积形成薄膜 。通过控制蒸发时间和速率,可以**控制膜层厚度 。在制备简单单层 AR 膜时,常采用此方法 。
  1. 溅射镀膜

    :溅射镀膜利用高能离子束轰击靶材,使靶材原子或分子溅射出来,沉积到基片上形成薄膜 。与真空蒸发镀膜相比,溅射镀膜的膜层均匀性更好、附着力更强,可镀材料更广泛 。在制备多层 AR 膜(如相机镜头多层膜)时,常采用磁控溅射技术 。通过**控制溅射功率、气体流量、基片温度等参数,可将不同材料(如二氧化硅、氧化钛)依次沉积,形成具有特定厚度和折射率分布的多层膜系,实现宽光谱范围内的低反射率 。

(二)化学气相沉积(CVD)

化学气相沉积是通过气态反应物在基片表面发生化学反应,生成固态镀膜层 。该方法的优势在于薄膜纯度高、均匀性好,且可在较低温度下沉积,适用于对温度敏感的基片 。

在制备太阳能电池 AR 膜时,常采用 CVD 工艺 。以硅基太阳能电池为例,将硅烷(SiH₄)和氨气(NH₃)等气态反应物通入反应室,在加热或等离子体激发条件下,反应生成氮化硅(SiNₓ)薄膜沉积在电池表面 。氮化硅薄膜不仅具有良好的减反射效果,还能起到钝化和保护太阳能电池的作用 。通过调节反应气体流量、温度、压力等参数,可以**控制薄膜的成分、结构和性能 。

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(三)其他镀膜技术

溶胶 - 凝胶法是将金属醇盐或无机盐水解形成溶胶,然后通过浸渍、旋涂等方式将溶胶涂覆在基片表面,经过干燥和热处理后形成镀膜层 。这种方法操作简单、成本较低,适合大面积基片镀膜 。在建筑玻璃 AR 膜的制备中,溶胶 - 凝胶法可快速、均匀地在玻璃表面形成镀膜层,有效降低玻璃的反射率 。

原子层沉积(ALD)基于自限性化学反应,能够以原子级精度控制膜层生长 。它可以在复杂形状基片(如 3D 打印微光学元件)表面实现均匀、保形的薄膜沉积 ,通过**调节反应物的通入时间和次数,可制备出高精度的多层 AR 膜 。

三、后处理:完善性能,确保品质

后处理是 AR 镀膜减反射工艺的重要环节,主要包括退火和质量检测,对完善膜层性能、确保产品质量至关重要。

(一)退火:消除应力,增强稳定性

在镀膜过程中,由于膜层与基片的热膨胀系数差异以及薄膜内部原子排列不规整,会产生内应力 。退火处理是将镀膜后的基片在适当温度下加热并保温一段时间,然后缓慢冷却 。这个过程可以使膜层中的原子获得足够的能量进行扩散和重新排列,从而消除内应力,提高膜层的致密性和附着力 。对建筑玻璃 AR 镀膜进行退火处理后,膜层与玻璃基底的结合更加牢固,在长期使用过程中不易出现脱落或性能衰退的现象 。

(二)质量检测:严格把关,保障品质

质量检测是确保 AR 镀膜性能达标的关键步骤,包括光学性能测试、机械性能测试和环境稳定性测试 。

光学性能测试主要检测镀膜层的反射率、透过率、光谱特性等指标 。使用分光光度计可以测量不同波长下镀膜层的反射率和透过率,通过分析光谱曲线,判断镀膜层是否达到设计要求 。例如,手机屏幕 AR 膜需要在可见光范围内反射率低于 1%,透过率高于 95% 。

机械性能测试包括检测镀膜层的硬度、耐磨性、附着力等 。通过划痕测试可以评估镀膜层的硬度和耐磨性,利用胶带粘贴测试可以检测镀膜层的附着力 。

环境稳定性测试则是模拟镀膜层在实际使用环境中的情况,如高温、高湿、紫外线照射等条件下的性能变化 。将 AR 镀膜样品放入高低温湿热试验箱中,在不同温度和湿度条件下测试其光学性能和机械性能,确保镀膜层在各种环境下都能保持良好的性能 。

从基片预处理的精心准备,到镀膜过程的核心工艺实施,再到后处理的严格把关,AR 镀膜减反射工艺的每一个流程都凝聚着科研人员的智慧和技术的精华。正是这些关键制备流程的紧密配合,才让 AR 镀膜实现**的减反射性能,为我们带来更上等的光学体验 。随着技术的不断进步,AR 镀膜制备工艺也将持续优化升级,未来必将创造更多惊喜 。



关于我们

上海卷柔新技术光电有限公司是一家专业研发生产光学仪器及其零配件的高科技企业,公司2005年成立在上海闵行零号湾创业园区,专业的光电镀膜公司,技术背景依托中国科学院,卷柔产品主要涉及光学仪器及其零配件的研发和加工;光学透镜、反射镜、棱镜,平板显示,安防监控等光学镀膜产品的开发和生产,为全球客户提供上等的产品和服务。

    采用德国薄膜制备工艺,形成了一套具有严格工艺标准的闭环式流程技术制备体系,能够制备各种超高性能光学薄膜,包括红外薄膜、增透膜,ARcoating,激光薄膜、特种薄膜、紫外薄膜、x射线薄膜,应用领域涉及激光切割、激光焊接、激光美容、医用激光器、光学科研,红外制导、面部识别、VR/AR应用,博物馆,低反射橱窗玻璃,画框,工业灯具照明,广告机,点餐机,电子白板,安防监控等。
    卷柔新技术拥有自主知识产权的全自动生产线【sol-gel溶胶凝胶法镀膜线】,这条生产线能够生产全球先进的减反射玻璃。镀膜版面可达到2440*3660mm,玻璃厚度从0.3mm到12mm都可以,另外针对PC,PMMA方面的增透膜也具有量产生产能力。ARcoating减反膜基本接近无色,色彩还原性好,并且可以避免了磁控溅射的缺点,镀完增透膜后玻璃可以做热弯处理和钢化处理以及DIP打印处理。这个难度和具有很好的应用性,新意突出,实用性突出,湿法镀膜在价格方面也均优于真空磁控的干法。


  卷柔减反射(AR)玻璃的特点:高透,膜层无色,膜硬度高,抗老化性强(耐候性强于玻璃),玻璃长期使用存放不发霉,且有一定的自洁效果.AR增透减反膜玻璃产品广泛应用于**文博展示、低反射幕墙、广告机玻璃、节能灯具盖板玻璃、液晶显示器保护玻璃等多行业。
    我们的愿景:卷柔让光学更具价值!
    我们的使命:有光的地方就有卷柔新技术!
    我们的目标:以高质量的产品,优惠的价格,贴心的服务,为客户提供优良的解决方案。
    上海卷柔科技以现代镀膜技术为核心驱动力,通过镀膜设备、镀膜加工、光学镀膜产品服务于客户,努力为客户创造新的利润空间和竞争优势,为中国的民族制造业的发展贡献力量。


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