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中科院上硅所Matter: 界面包覆助力VO2热致变色薄膜稳定性提升

中科院上硅所Matter: 界面包覆助力VO2热致变色薄膜稳定性提升 

能源危机是当今人类社会所面临的重大问题。建筑能耗占全球总耗能1/3以上,而其中近一半经由建筑物窗体流失。二氧化钒(VO2)是一种典型的热致相变材料,由于其相变温度可在室温附近调节,以及相变前后显著的光学响应,而被用于研发热致变色智能节能窗。经过近年来研究学者们的不懈努力,有关VO2智能窗方面的研究工作取得持续进展,其在相变温度、光学性能以及大规模制备方法等方面均有所突破。然而VO2材料本身的不稳定性及劣化问题依然是其商业化的*大阻碍之一。由于V为多价元素,而VO2中的+4价V离子受空气中水分、氧气等因素的影响被氧化为+5价的V离子,从而导致热致变色薄膜的失效。目前,由于缺少对VO2薄膜失效过程的研究,大多数文献报导并不能得到适用于商业化的稳定性提升。

近日,中国科学院上海硅酸盐研究所的金平实研究员和曹逊副研究员团队采用界面包覆的方法成功实现了VO2热致变色薄膜稳定性的大幅度提升。通过构建不同界面暴露的样品结构,证明VO2薄膜的截面部分虽然其面积很小(在该研究中截面与表面的面积比为1:200000),但是在其失效过程中起到了至关重要的作用,这在之前的研究中往往被忽视。本工作选用光学常数匹配且具有自疏水性的HfO2作为保护层材料,对VO2薄膜的不同界面(表面和截面)进行同时包覆,可以在提高VO2薄膜热致变色效果的同时,实现其服役寿命的大幅提升。该界面包覆的结构在高温高湿加速老化实验(60°C, 90%相对湿度)的环境中可以相对稳定保存100天以上,而有任意界面暴露的样品结构很快失效。通过Hallberg-Peck模型计算可得,该结构有望在实际环境中稳定服役16年以上。同时,该结构在沸水浴实验及加热实验中均表现出显著增强的稳定性,可以满足VO2薄膜在不同环境中的使用情况。本研究为提高VO2薄膜稳定性的提升及相应的商业化应用提供了新的策略。该研究成果以题为“Mitigating Deterioration of Vanadium Dioxide Thermochromic Films by Interfacial Encapsulation”发表在Cell Press旗下材料旗舰期刊Matter 上,**作者为在读博士生常天赐,通讯作者为曹逊副研究员。

图1包覆结构的设计

(A) 水分子在VO2及HfO2表面可能的吸附路径;

(B) VO2及VO2/HfO2表面的接触角测试,可以发现VO2为亲水性表面,而VO2/HfO2为疏水性表面;

(C) 不同界面暴露的样品结构设计示意图,分别为表面+截面全暴露、表面暴露、截面暴露以及表面+截面全包覆。

图2样品的基础表征

(A) 样品的结构示意及SEM图片;

(B) VO2及VO2/HfO2的XRD图谱;

(C) VO2薄膜的Raman光谱;

(D) VO2及VO2/HfO2的透过率图谱,可以发现HfO2的引入可以显著增强其光学性能;

(E) VO2及VO2/HfO2的实物图照片,VO2/HfO2的透过率提升。

图3不同结构样品的高温高湿加速老化实验表征

(A) 水分子及氧气对四种样品结构的作用路径;

(B) 四种样品结构在高温高湿加速老化实验中(60°C,90%相对湿度),其太阳光调节效率随测试时间的变化曲线;

(C) 四种样品结构在高温高湿加速老化实验中(60°C,90%相对湿度),其在2500nm处的透过率差值随测试时间的变化曲线;

图4不同结构样品的沸水浴实验及热稳定性实验

(A) 不同样品随沸水浴处理时间的增长,其形貌直观变化照片;

(B) 随沸水浴处理时间的变化,样品太阳光调节效率的变化;

(C) 不同样品随热处理温度的变化,相应XRD图谱的变化;

(D) 随热处理温度的变化,样品太阳光调节效率的变化;

图5 磁控溅射薄膜的结构与温度及气压的关系

根据磁控溅射制备VO2薄膜的常用参数可以发现,其薄膜截面具有一定的微孔和裂缝,可以充当氧气及水分的通道而导致薄膜的失效。结合上面的实验表征部分,可以表明VO2薄膜的截面部分在其失效劣化过程中起到了重要作用。

小结

本文中,作者设计了不同界面保护的VO2薄膜样品结构,通过高温高湿加速老化实验、沸水浴实验及加热实验,证明了VO2薄膜的截面部分虽然相对面积很小,但是在其失效劣化过程中起到了相当重要的作用。通过引入光学常数匹配且具有自疏水性的HfO2薄膜作为保护层材料,制备了全包覆结构的VO2/HfO2 样品。该结构的样品在不同环境的测试环境中均表现出显著增强的稳定性,通过Hallberg-Peck模型计算可得,该结构有望在实际环境中稳定服役16年以上。该研究为提高VO2热致变色薄膜的使用寿命提供新的策略,有助于早日实现其商业化应用。

上海卷柔新技术光电有限公司是一家专业研发生产光学仪器及其零配件 的高科技企业,公司成立2005年,专业的光电镀膜公司,公司产品主要涉及光学仪器及其零配件的研发和加工;光学透镜、反射镜、棱镜等光学镀膜产品的开发和生产,为全球客户提供上等的产品和服务。采用德国薄膜制备工艺,形成了一套具有严格工艺标准的闭环式流程技术制备体系,能够制备各种超高性能光学薄膜,包括红外薄膜、增透膜,ARcoating, 激光薄膜、特种薄膜、紫外薄膜、x射线薄膜,应用领域涉及激光切割、激光焊接、激光美容、医用激光器、红外制导、面部识别、VR/AR应用,博物馆,低反射橱窗玻璃,画框等。


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