反射式膜厚量测仪 cp-002

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产品价格： < 面议

产品型号：cp-002

品牌：OTSUKA大冢光学

公司名称：苏州市新杉本电子科技有限公司

所在地：江苏苏州

发布时间：2017-03-31

浏览次数：439 次

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产品简介

产品特点
非接触式、不破坏样品的光干涉式膜厚计。
高精度、高再现性量测紫外到近红外波长反射率光谱，分析多层薄膜厚度、光学常数(n:折射率、k:消光系数)。
宽阔的波长量测范围。(190nm~1100nm)
薄膜到厚膜的膜厚量测范围。(1nm~250μm)
对应显微镜下的微距量测口径。

产品详细信息

产品特点

非接触式、不破坏样品的光干涉式膜厚计。
高精度、高再现性量测紫外到近红外波长反射率光谱，分析多层薄膜厚度、光学常数(n:折射率、k:消光系数)。
宽阔的波长量测范围。(190nm~1100nm)
薄膜到厚膜的膜厚量测范围。(1nm~250μm)
对应显微镜下的微距量测口径。

量测项目

透过率・反射率测量
膜厚测量

产品规格

型号	标准型				厚膜专用型
样品大小	*大200mm×200mm×7（厚度）mm
可测层数	*1
膜厚范围	1nm~40μm				0.8μm~210μm	1μm~240μm	80μm~1mm
波长范围	190nm~760nm	230nm~800nm	330nm~1100nm	430nm~970nm	750nm~850nm	900nm~1600nm	1490nm~1590nm
测试单元	CCD	CCD	CCD	PDA	PDA	InGaAs	InGaAs
膜厚精度	±0.1nm（以NIST认证的标准样品为依据）*2
重复性精度（2.1σ）
膜厚测试（Si基板上的SiO膜	100nm未满：0.1nm*3 100nm以上：0.07%
反射率测试（Si基板）	230nm~250nm：0.8%4 250nm~800nm：0.4% 4 800nm~1050nm：0.8%*4
测试光斑*5	φ40μm<×5倍>、φ20μm<×10倍>、φ10μm<×20倍>、φ6.6μm<×30倍>、φ5μm<×40倍>
对物镜头	反射式对物镜头倍数：×10倍、×20倍、×30倍、×40倍折射式对物镜头（可视）：×5倍、×10倍、×20倍
测试光源	D 2(紫外光)、I 2(可见光)、D 2 +I 2(紫外-可见光)
XYZ stage	自动stage				手动stage
行程	X：200mm、Y：250mm、Z：10mm				X：200mm、Y：250mm、Z：10mm
重复性精度	2μm<0.5μm>				-
驱动分辨率	1μm<0.1μm>				-
尺寸·重量	481（W）mm×770（H）mm×714（D）mm约96kg				427（W）mm×770（H）mm×725（D）mm约88kg
控制单元	自动stage				手动stage
尺寸·重量	300（W）mm×710（H）mm×450（D）mm约34kg				300（W）mm×380（H）mm×450（D）mm约18kg
电源规格	AC100V±10V 750VA				AC100V±10V 500VA
软件
测试	手动测试/连续测试/制图测试（mapping）/测试与计算同步功能
解析	非线性小二乘法/波峰波谷解析法/FFT解析法/适化法基板解析/里面反射补正/各类nk解析模型式 **反射率/解析结果Fitting/折射率n的波长相关性/消光系数k的波长相关性 3D显示功能（面内膜厚分布、鸟窥图、等高线、断面图）
系统维护	材料文件构建（database管理）、硬件的各种设定
其它	样品对焦的数值显示功能、自动对焦功能（自动stage有此功能）、内部反射补正功能
数据处理
数据处理	台式电脑、显示器、打印机