胡正明（右）与王宁国（左）获选进入硅谷工程协会名人堂。 中为协会要角Stanley Meyer。 （记者李荣／摄影）
硅谷工程协会（Silicon Valley Engineering Council）22日举行今年度名人堂（Hall of Fame）颁奖典礼，今年三位得主就有胡正明与王宁国两位华人，创下纪录、意义非凡。 更特别的是，两人都是来自台湾、后又到柏克莱加大深造的同期校友，读书时就常聚在一起，王宁国说：「台湾与柏克莱出了好多杰出工程师！ 」
名人堂地位崇高，今年除胡正明与王宁国，另外一位得主是ARES公司执行长史都华特（ Richard J Stuart）。
从90年代至今，进入名人堂的人有：惠普创办人惠勒（William Hewlett）和帕克（David Packard）；英特尔创办人摩尔 （Gordon Moore）、 诺宜斯（Robert Noyce）、应用材料公司前总裁丹梅登（Dan Maydan）；苹果创办人沃兹尼克（Steve Wozniak）等人。 包括今年，只有五位华人入选，另外三人是已故柏克莱加大前校长田长霖，柏克莱加大前工学院院长葛守仁（Ernest S. Kuh），以及林氏研究集团（Lam Research）创办人林杰屏。
出生于北京、台湾长大的胡正明毕业台大电机系、柏克莱加大博士。 胡正明曾任台积电首任技术长，目前为柏克莱教授，是半导体领域先驱级人物，因为在鳍式场效晶体管（FinFET）技术上取得突破而获奖；鳍式晶体管为40多年来半导体领域重要变革，使得摩尔定律得以自2011年延续至今。
胡正明去年获得国家技术与**奖章，由欧巴马总统颁奖；数月前他又得到中华民国蔡英文总统授予工业研究院院士，以及第十届的潘文渊奖，两个奖项也都是**指针意义的科技大奖，先前的得奖讲的人包括张忠谋等重量级科技人。
「非常光荣，」胡正明说，名人堂是很荣耀的奖项，涵盖领域广泛，不光只是关于电子方面，「在被提名前也不晓得」。
另一位获选进入名人堂的王宁国是中原大学学士、柏克莱加大博士，曾任应用材料执行副总裁、华虹集团执行长、中芯国际集团总裁兼执行长等职。 王宁国也说，能得奖非常开心，「（我自己）从来没有想过要追求名声，但是非常努力当好一个工程师。 」
他在演讲中建议工程师必须要有坚持与决心，因为工程师并不是追求简单、快速获胜的人，而是处理困难问题，「当别人放弃时，我们追寻解答。 」另外，自己在贝尔实验室、应用材料等多年经历，也深深体验到容忍不同意见，以及与不同背景的人一起合作的重要。
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