Intel:没有EUV 依然7nm!

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和我拼工艺,7nm你有吗?

尽管困难和阻力越来越大,Intel以其无以伦比的技术实力,仍在努力推进半导体工艺的深发展,14nm刚刚开始登场,就已经在大谈特谈7nm了。

Intel院士Mark Bohr表示:“我的日常工作就是研究7nm。我相信,没有EUV也能做到。”

EUV就是极紫外光刻。这十几年来,半导体工艺虽然在不断进步,但是核心光刻技术一直没有实质性的突破,还是老一套,EUV就是众望所归的下一站,但其难度之大就连Intel也是异常吃力,结果一拖再拖,至今遥遥无期。

Intel此前路线图显示10nm、7nm分别安排在2015年、2017年,但是14nm已经拖延了大半年……

Intel认为,EUV技术已经来不及用于10nm,甚至7nm上都很难说,尽管很多人对此抱着很大的期望。

Bohr进一步解释说:“我对EUV非常感兴趣,真的能帮助工艺进步,部分时候还能将三四个遮罩缩减为一个,但不幸的是,它还没有做好准备,产能和可靠性还不够。”

Bohr没有透露如何在没有EUV的情况下实现10nm、7nm,不过他指出Intel 14nm在一个或多个关键层上使用了新的三重曝光技术。

他还表示,2015年底的时候,Intel会安排部分代工客户体验尝鲜一下10nm,这也暗示新工艺产品将无法按原计划推出,得等到2016年了。如此乐观估计,7nm至少得2018年。

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